G03F 图纹面的照相制版工艺,例如:印刷工艺,半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备(照相排版装置入B41B;为摄影用的感光材料或处理入G03C;电刻、感光层或处理入G03G)〔5〕
附注
在本小类中,下列使用的术语或措辞具有指定的含义:
--“感光的”一词不仅仅表示对电磁辐射敏感,也表示对微粒幅射敏感;
--“感光剂的成分”,包括感光物质(例如,苯醌重氮)以及适当的粘合剂或添加剂;
--“感光材料”包括感光剂成分(例如,光敏抗蚀剂),携带感光剂成分的基层以及适当的辅助层。〔5〕
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 1/00 用于图纹面的照相制版的原版的制备(一般照相制版工艺入7/00)〔3〕
 1/02 ·用模仿凸版制造原型的照相方法的
 1/04 ·用拼版方法的
 1/06 ·来自印刷表面的〔5〕
 1/08 ·原版带有无机成象层,例如:铬掩模(1/12优先)〔5〕
 1/10 ·通过曝光和水洗颜料或彩色有机层的;通过对高分子晶格染色的〔5〕
 1/12 ·通过对卤化银感光材料或重氮感光材料曝光的〔5〕
 1/14 ·以细部结构为特征的原稿,例如:基片层,覆盖层,薄膜环〔5〕
 1/16 ·原版带有窗孔的,例如:微粒平版印刷术〔5〕
 3/00 分色;色调值的校正(一般照相复制设备入G03B)
 3/02 ·应用修版方法
 3/04 ·应用照相装置
 3/06 ··应用蒙版
 3/08 ·应用光电装置
 3/10 ·检查分色负片或正片的彩色或色调值
 5/00 网屏印刷法;其所用网屏
 5/02 ·用投影方法(照相机入G03B)
 5/04 ··改变网屏作用
 5/06 ··改变光阑作用
 5/08 ··应用线条网屏
 5/10 ··应用十字线网屏
 5/12 ··应用其它网屏,例如:粒状网屏
 5/14 ·用接触方法
 5/16 ··应用灰色半色调网屏
 5/18 ··应用彩色半色调网屏
 5/20 ·网屏用于照相凹版印刷
 5/22 ·几个网屏组合;龟纹的消除
 5/24 ·用多次曝光;例如:照相和网屏的联合方法
 7/00 图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如:B44C,H01L,如,H01L21/00,H05K)〔3,5〕
 7/004·感光材料(7/12,7/14优先)〔5〕
 7/008··叠氮化合物(7/075优先)〔5〕
 7/012···高分子叠氮化合物;高分子添加剂,例如:粘结剂〔5〕
 7/016··重氮盐或化合物(7/075优先)〔5〕
 7/021···高分子重氮化合物;高分子添加剂,例如:粘结剂〔5〕
 7/022··苯醌重氮(7/075优先)〔5〕
 7/023···高分子苯醌重氮;高分子添加剂,例如:粘结剂〔5〕
 7/025··具有碳-碳三键的非高分子的可光聚合的化合物,例如:乙炔化合物(7/075优先)〔5〕
 7/027··具有碳-碳双键的非高分子的可光聚合的化合物,例如:乙烯化合物(7/075优先)〔5〕
 7/028···含有增光敏物质的,例如:感光刺激剂〔5〕
 7/029····无机化合物; 类化合物;含杂原子而不含氧、氮、硫原子的有机化合物〔5〕
 7/031····7/029组不包括的有机化合物〔5〕
 7/032···含有粘结剂的〔5〕
 7/033····通过反应而得到的仅包含碳-碳不饱和键的粘结剂聚合物,例如:乙烯基聚合物〔5〕
 7/035····粘结剂是聚氨基甲酸酯〔5〕
 7/037····粘结剂是聚酰胺或聚酰亚胺〔5〕
 7/038··高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的(7/075优先;高分子叠氮化合物入7/012;高分子重氮化合物入7/021)〔5〕
 7/039··光崩解的高分子化合物,例如:正电子抗蚀剂(7/075优先;高分子苯醌重氮化合物入7/023)〔5〕
 7/04 ··铬酸盐类(7/075优先)〔5〕
 7/06 ··银盐类(7/075优先)〔5〕
 7/07 ···用于扩散转印的〔5〕
 7/075··含硅的化合物〔5〕
 7/085··以加速粘结的非高分子添加剂为特征的感光剂组分(7/075优先)〔5〕
 7/09 ··以细部结构为特征的,例如:基片层,辅助层(印刷版的基片层一般入B41N)〔5〕
 7/095···具有一个以上的感光层的(7/075优先)〔5〕
 7/105···具有形成可见影象的物质的,例如:指示剂〔5〕
 7/11 ···具有覆盖层或中间层的,例如:(使感光乳剂固着于片基的)胶层〔5〕
 7/115···具有基片层或具有可获得网屏效应的层以及在真空印刷中为获得更好地接触的层〔5〕
 7/12 ·网屏印刷模或类似印刷模的制作,例如:镂花模版的制作〔5〕
 7/14 ·珂罗版印刷模的制作〔5〕
 7/16 ·涂层处理及其设备(用于基底材料涂层一般入B05;用于摄影目的而施加到基底上的感光成分入G03C1/74)
 7/18 ··弯曲面的涂层
 7/20 ·曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)〔4〕
 7/207··聚焦装置,例如自动地(定位与聚焦的结合入9/02;聚焦信号自动发生系统一般入G02B7/28;投影印制设备的自动聚焦入G03B27/34;)〔4〕
 7/213··用同一光学图象使同一表面的不同位置上同时曝光(7/207优先)〔4〕
 7/22 ··用同一光学图象使同一表面的不同位置依次曝光(3/207优先)〔4〕
 7/23 ···相应的自动装置〔4〕
 7/24 ··弯曲的版面
 7/26 ·感光材料的处理及其设备(7/12至7/24优先)〔3,5〕
 7/28 ··为获得粉末影象的(3/10优先)〔5〕
 7/30 ··用液体消除影象的〔5〕
 7/32 ···所用的液体成分,例如:显影剂〔5〕
 7/34 ··用选择性转印去除影象的,例如:剥离〔5〕
 7/36 ··7/30至7/34组中不包括的影象去除,例如:用气流、用等离子体去除影象〔5〕
 7/38 ··去除影象之前的处理,例如:预烘干〔5〕
 7/40 ··去除影象之后的处理,例如:烘干〔5〕
 7/42 ··剥离或剥离剂〔5〕
 9/00 原搞、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(7/22优先;照相蒙片的制备入1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)〔4〕
 9/02 ·与自动聚焦装置相结合的(自动聚焦入G02B7/09;聚焦信号的自动产生系统入G02B7/28)〔4〕